µÎÀÚ¸®¼ö X 11 ´Â °¢°¢ ÀÚ¸®¼ö¿Í ÇÕÀ¸·Î ±¸ÇÏ°í, ¼¼ÀÚ¸´¼ö X ÇÑ ÀÚ¸´¼ö´Â ¾Õ¿¡¼ºÎÅÍ °è»êÇÏ°í,
½ÊÀÇÀÚ¸®¼ö°¡ °°°í, ÀÏÀÇ ÀÚ¸®¼ö ÇÕÀÌ 10ÀÎ µÎÀÚ¸®ÀÇ °æ¿ì¿¡ »¡¸® °è»êÇÏ´Â ¹ýÀ» ¹è¿ü½À´Ï´Ù.
µÎ ÀÚ¸´¼öÀÇ °öÀ» ¸®º»Çü °è»ê¹ýÀ¸·Î ÆíÇÏ°Ô °è»êÇϴ°Ͱú, 10ÀÇ ÀÚ¸®°¡ 1Àΰæ¿ì ¤¡ÀÚ °è»ê¹ýÀ» Çϴ¹ýÀ» ¹è¿ü½À´Ï´Ù.
[¼ö¸®³í¸®]½ÇÀü¸ðÀÇ°í»ç 1ȸ(3) °ÀǸ¦ µé¾ú½À´Ï´Ù.
°è»êÀÌ ¾î·ÆÁö ¾Ê°í ´«À¸·Î¸¸ º¸°í Ç® ¼ö ÀÖ´Â º¸±âºÎÅÍ Ç¬ µÚ, ¸ðµÎ °í¸£´Â ¹®Á¦¿¡¼ ¿À´äÀ» ¼Ò°ÅÇÏ´Â ¹æ½ÄÀ¸·Î ÇÏ¿© ½Ã°£µµ ¾Æ³¢°í, ¿À·ù¸¦ ÁÙÀÏ ¼ö ÀÖ¾ú½À´Ï´Ù.
10% ºñÀ²ÀÇ ¹®Á¦´Â »ý°¢º¸´Ù ±Ý¹æ Ç® ¼ö ÀÖ¾ú°í, ±¸ÇÏ°íÀÚ ÇÏ´Â °ÍÀ» ¸»·Î½á Á¤È®È÷ Ç®¾î³»¸é °è»ê°úÁ¤À» °£´ÜÈ÷ ÇÏ¿© ´äÀ» ±¸ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù´Â °ÍÀ» ¾Ë°Ô µÇ¾ú½À´Ï´Ù.
¹ÝµµÃ¼ 8´ë °øÁ¤°ú 3´ë ÁÖ¿ä °øÁ¤ÀÇ °³¿ä °ÀǸ¦ µé¾ú½À´Ï´Ù.
8´ë °øÁ¤Àº 1. Wafer Á¦Á¶ 2. Oxidation(»êÈ) 3. Photolithography(Æ÷Åä °øÁ¤) 4. Etching(½Ä°¢) 5-1. Thin Film Deposition(¹Ú¸· ÁõÂø) 5-2. Ion implatation(ÀÌ¿Â ÁÖÀÔ) 6. Metallization(±Ý¼Ó ¹è¼±) 7. EDS(°Ë»ç) 8. Packaging +a. CMP(Chemical Mechanical Polishing)¿¡ ´ëÇØ ¹è¿ü½À´Ï´Ù.
°¡Àå Áß¿äÇÑ 3´ë °øÁ¤Àº 3. Photolithography(Æ÷Åä °øÁ¤), 4. Etching(½Ä°¢), 5-1. Thin Film Deposition(¹Ú¸· ÁõÂø)À̶ó°í Çϼ̽À´Ï´Ù.
Yeild(¼öÀ²)Àº ¼³°èÇÑ ÃÖ´ë Chip ¼ö Áß ¾çÇ°À¸·Î »ý»êÇÑ Chip ¼öÀÇ ºñÀ²·Î ³ªÅ¸³½´Ù´Â °ÍÀ» ¾Ë°Ô µÇ¾ú½À´Ï´Ù.
Wafer Á¦Á¶ ½Ã¿¡ single crystal°ú Polycrystal°ú Amorphous 3°¡Áö ¿øÀڹ迿¡ µû¶ó Àü±âÀûƯ¼ºÀÌ ¹Ù²ð ¼ö ÀÖ´Ù´Â °ÍÀ» ¹è¿ü½À´Ï´Ù.