8일차 인적성 강의는 양리라 선생님의 모의고사 수리영역 마지막 해설강의였다. 아직 많이 느리고 어려운 숫자비교를 주로 연습하면서 강의를 들었다. 또한 자료 해석시 다중정답이라 생각되는 문제가 많은 것 같아 수리문제를 해결할 때 더 집중해야겠다는 생각을 하게 되었다 ㅜ_ㅜ 강의를 듣기 전 아예 감도 잡을 수 없었던 문제가 많았는데 양리라 선생님과 모의고사 2회를 같이 해결하면서 숫자비교문제나 자료해석시 빠르고 정확한 방법으로 할 수 있는 다양한 문제스킬을 배울 수 있었다. 무료제공이라 모의고사 풀이강의였지만 시간이 된다면 양리라 선생님의 인적성 개념강의도 구매해서 듣고싶었다.
8일차 김동민 선생님의 반도체 강의는 Deposition에 관한 내용이었습니다 CVD를 압력에 따라 분류하고 각 특성과 속도차이에 대해 설명해주셨습니다. 박막이 형성되는 속도가 빠를수록 막질이 좋지 않고, Batch process 시 diffusion과 reaction영역으로 나누어 지는데 이때 온도를 정할 수 있다.
또한 mean free path와 step coverage의 관계에 대해서도 배울 수 있었는데, 진공도에 따라 mean free path가 달라지고 path거리에 따라 step coverage가 달라진다. 고진공에서는 충돌할 수 있는 원자수가 적기때문에 mean free path가 길어지고 step coverage가 좋아진다. Deposition은 물리적 방식인 pvd와 화학적 방식인 cvd로 나누어지는데 pvd는 공정이 단순하고 다양한 물질을 증착가능하지만 스텝커버리지가 좋지않다. 또한 박막의 두께를 일정하게 설정하려면 batch process를 사용해야하고 이를 사용하기 위해서는 reaction단계가 반응 속도를 결정해야한다. 또한 원자를 1층씩 형성하는 ALD에 대해서도 배우게 되었는데, 매우 막질이 좋은 정교한 박막을 만들 수 있는 반면, 프리커서가 제한적이고 속도가 느리고 매우 비싼 공정이다.
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